真空共晶炉MUX-V80

真空共晶炉MUX-V80

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日期 : 2025-03-18

          适用大功率LED、激光器、MEMS器件封装 加热面积305mm×228mm, 可订制大面积加热 加热方式:红外辐射加热 加热载体:高导热高纯石墨

    产品描述:

    • 1、适用大功率LED、激光器、MEMS器件封装
      2、加热面积305mm×228mm, 可订制大面积加热
      3、加热方式:红外辐射加热
      4、加热载体:高导热高纯石墨
      5、冷却方式:氮气冷却
      6、炉盖锁紧方式:气动自动锁紧,未锁紧报警;
      7、工作模式:自动手动两种工作模式;
      8、用户可自行设定工艺曲线且对所设定工艺曲线实时监控;
      9、自动运行工艺曲线记录存储功能;
      10、水冷保护功能(炉盖及观察窗密封圈、降温板),冷却水由设备自带冷却水循环系统提供;
      12、控制软件具有防差错互锁,超温报警功能;
      13、配置甲酸模块,可以使用甲酸工艺气体。真空及充气系统为耐腐蚀规格。
      14、可对抽真空、加热、充惰性气体、甲酸、充气流量等功能进行设置及控制。

北京合鑫众业科技有限公司

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